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Eksma 高透射率的雙反射鏡

簡要描述：Eksma 高透射率的雙反射鏡
IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98％。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質：代理商
更新時間：2021-03-22
訪問量：818

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LAYERTEC非球面光學元件介紹

詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 高透射率的雙反射鏡

IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98％。

Ø用于高功率激光器的IBS鍍膜

Ø激光損傷閾值> 10 J / cm2，脈沖為8納秒，典型值為1064 nm

Ø背面防反射鍍膜

Ø透射波長T> 98％

Eksma 高透射率的雙反射鏡

產(chǎn)品型號

型號	材料	反射波長	透射波長	AOI	直徑	厚度
041-6800HT	UV FS	R>99.5%@1064nm	T>98%@808nm	0°	ø 12.7 mm	3 mm
042-6800HT	UV FS	R>99.5%@1064nm	T>98%@808nm	0°	ø 25.4 mm	6 mm
041-6805HT	UV FS	R>99.5%@1064nm	T>98%@808nm	45°	ø 12.7 mm	3 mm
042-6805HT	UV FS	R>99.5%@1064nm	T>98%@808nm	45°	ø 25.4 mm	6 mm
041-6200HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	0°	ø 12.7 mm	3 mm
042-6200HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	0°	ø 25.4 mm	6 mm
041-6202HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	22.5°	ø 12.7 mm	3 mm
042-6202HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	22.5°	ø 25.4 mm	6 mm
041-6205HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	45°	ø 12.7 mm	3 mm
042-6205HT	UV FS	R>99.5%@1028-1080nm	T>98%@965-982nm	45°	ø 25.4 mm	6 mm

基材

材料	UV級熔融石英
S1表面平整度	λ/ 10（在633 nm下）
S1表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面平整度	λ/ 10（在633 nm下）
S2表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25mm
平行性	30角秒
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術	離子束濺射（IBS）
激光損傷閾值	>10 J/cm2, 8 ns pulse, 1064 nm
背面防反射鍍膜	R<0.1% at AOI=0° R<0.25% at AOI=45°

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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