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Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器

簡要描述:Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光電機械適配器和精密光電機械支架840-0197。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:951

產品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器


Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器

具有?17 mm透明孔徑的可變衰減器,由兩個薄膜Brewster型偏振片和一個安裝在精密光機械裝置中的波片組成。衰減器設計允許在很寬的動態范圍內控制兩個出射光束之間的強度。

產品介紹

?將激光束分為兩束可手動調節強度比的平行束

?大動態范圍

?透射光束偏移?0.5毫米

?高光學損傷閾值

?S-Pol衰減范圍?0.25%-99.0%

?P-Pol衰減范圍?0.5%-95.0%

該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光電機械適配器和精密光電機械支架840-0197。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。

可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數。可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。


注意:可移動基座820-0090,桿架820-0050-02和標準桿應單獨訂購。

產品型號

適用于Nd:YAG激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0070-355

355 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0070-532

532 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0070-1064

1064 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

飛秒應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0070-257

257 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-266

266 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-343

343 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-400

400 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-400B

390-410 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-515

515 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-515B

505-525 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-800

800 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-800B

780-820 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-1030

1030 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-1030B

1010-1050 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于高功率飛秒激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0070-257H

257 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-266H

266 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-343H

343 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-400H

400 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-400HB

390-410

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-515H

515 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-515HB

505-525 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-800H

800 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-800HB

780-820 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-1030H

1030 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0070-1030HB

1010-1050 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

對于Nd:YAG應用

通光孔徑

17 mm

損害閾值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比(一個偏振片之后)

>1:200

偏振比(二偏振片之后)

>1:500


飛秒應用

通光孔徑

17 mm

損害閾值

用于大功率激光應用

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散


t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比(一個偏振片之后)


>1:200

偏振比(二個偏振片之后)


>1:500

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。


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