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Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)

簡要描述:Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)
薄膜偏振片(圓形)將S和P偏振分量分開。 由于在800 nm,50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產品。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:798

產品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)


Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)

薄膜偏振片(圓形)將S和P偏振分量分開。 由于在800 nm,50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產品。

產品介紹

Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0%

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0%

Ø對于高消光比的薄膜偏振片,Tp> 98%,Ts <0.1%

Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200:1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000:1(HE系列)

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm,50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產品。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200:1。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

產品型號

高消光比的薄膜偏振片; UVFS; Tp> 98%,Ts <0.1%

型號

材料

直徑

厚度

波長

偏振效率

消光比

420-1242HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1244HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1266HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1256HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1248HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

高透射率薄膜偏振片; 紫外線FS; Ts <0.2%,Rp <0.2%

型號

材料

直徑

厚度

波長

偏振效率

消光比

420-1256UHT

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

420-1248UHT

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

高透射率薄膜偏振片; 紫外線FS; Rs / Tp> 99.5 / 99.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長

偏振效率

消光比

420-1242HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1244HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1256HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1248HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

標準薄膜偏振片; BK7; Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長

偏振效率

消光比

420-0114E

BK7

12.7 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0126E

BK7

12.7 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0136E

BK7

12.7 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0118E

BK7

12.7 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0138E

BK7

12.7 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0244E

BK7

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0256E

BK7

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0266E

BK7

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0248E

BK7

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0268E

BK7

25.4 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0514E

BK7

50.8 mm

6 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0506E

BK7

50.8 mm

6 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0526E

BK7

50.8 mm

6 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0518E

BK7

50.8 mm

6 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0528E

BK7

50.8 mm

6 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

標準薄膜偏振片; UVFS; Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長

偏振效率

消光比

420-1110E

UV FS

12.7 mm

3 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1112E

UV FS

12.7 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1123E

UV FS

12.7 mm

3 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1114E

UV FS

12.7 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1126E

UV FS

12.7 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1136E

UV FS

12.7 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1118E

UV FS

12.7 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1138E

UV FS

12.7 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1240E

UV FS

25.4 mm

3 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1242E

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1253E

UV FS

25.4 mm

3 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1244E

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1256E

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1266E

UV FS

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1248E

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1268E

UV FS

25.4 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1510E

UV FS

50.8 mm

6 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1512E

UV FS

50.8 mm

6 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1503E

UV FS

50.8 mm

6 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1514E

UV FS

50.8 mm

6 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1506E

UV FS

50.8 mm

6 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1526E

UV FS

50.8 mm

6 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1518E

UV FS

50.8 mm

6 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1528E

UV FS

50.8 mm

6 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

材料

BK7, UV FS

表面質量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

透射效率

Tp>95%

消光比Tp / Ts

> 200:1(用于標準和HT系列)

> 1000:1(對于HE系列)

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm,50 Hz

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

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